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圖解日立硬盤的熱懸浮控制技術(shù)(下)
2007-11-15   IT168

圖4:讀寫元件在熱懸浮控制技術(shù)調(diào)整時(shí)的凸起幅度
""
Spacing
間距
TFC power
熱懸浮控制技術(shù)的功耗
Write induced protrusion
寫入所引起的凸起幅度
Power during read
讀取時(shí)的功耗
Power during write
錄寫時(shí)的功耗
Write gate
錄寫控制門
lw is applied
應(yīng)用lw
Start pre-heat
開始預(yù)熱
Start write
開始寫入
Time
時(shí)間
圖5:在熱懸浮控制技術(shù)下進(jìn)行的錄寫程序
""
Spacing
間距
TFC power
熱懸浮控制技術(shù)的功耗
Power during read
讀取時(shí)的功耗
Read gate
讀取閘
Start pre-heat
開始預(yù)先加熱
Start read
開始讀取
Time
時(shí)間
圖6:在熱懸浮控制技術(shù)下進(jìn)行的讀取程序
結(jié)論
讀寫性能的測(cè)試顯示使用熱懸浮控制技術(shù)可將軟錯(cuò)誤率降低30%到40%,這標(biāo)志著軟錯(cuò)誤率(SER)的顯著改善,因而提升了硬盤整體的性能及可靠性。使用熱懸浮控制技術(shù)可使寫入的數(shù)據(jù)更趨于一致,因?yàn)樵谡麄€(gè)錄寫程序中,錄寫元件與磁盤之間的間距保持了固定的距離,從而更好地覆蓋已寫入數(shù)據(jù),同時(shí)所有數(shù)據(jù)的SER也將更一致化。此外,在廣泛的溫度范圍內(nèi)達(dá)到較一致的數(shù)據(jù)寫入表現(xiàn)可使寫入電流在不同操作溫度下有更好的表現(xiàn)。與上一代的產(chǎn)品比較,熱懸浮控制技術(shù)對(duì)鄰近磁道干擾(ATI)現(xiàn)象也有顯著的改善。日立推出的熱懸浮控制技術(shù)能明顯改善其硬盤的數(shù)據(jù)讀寫程序。它也有助于日立工程師優(yōu)化設(shè)計(jì)以解決由于數(shù)據(jù)持續(xù)寫入而導(dǎo)致的數(shù)據(jù)重寫覆蓋和ATI之間的設(shè)計(jì)沖突。對(duì)讀寫元件和磁盤間距的更精確控制,將為日立客戶帶來更可靠及性能更優(yōu)越的硬盤。
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